- 機器名をクリックすると詳細をご確認いただけます。マテリアル先端リサーチインフラ（分子科学研究所）へ移動します。
- 各設備に関するお問い合わせは、装置名を明記の上、所外公開装置担当者(E-mail：
)までお願いします。 - 施設利用で分子研において寒剤を使用する場合は、 来所前に以下のマニュアルをお読みください。
液体ヘリウム利用者マニュアル（PDF） ・液体窒素利用者マニュアル（PDF） - 予約システム
電子顕微鏡
- 低真空分析走査電子顕微鏡
日立ハイテクノロジーズ SU6600
BrukerAXS FQ5060/XFlash6 - 加速電圧0.5～30kVで、二次電子像、反射電子像、明視野透過電子像を観察します。10Pa～300Paの低真空観察に対応します。EDS（EDX）による元素分析や元素マッピングが可能です。 ※一部利用停止中
- ［設置場所：実験棟B09］
- 電界放出形透過電子顕微鏡
JEOL JEM-2100F - 加速電圧200kVで、TEM像、STEM像を観察。X線分析装置（EDS）による元素分析、組成マップの測定が可能。
- ［設置場所：山手3号館1F TEM室］
- 電子プローブマイクロアナライザ（EPMA）
JXA-8230 - X線分析装置（WDS、SXES）による元素分析、組成マップ。分光範囲は、WDS:0.087～9.3 nm、SXES：50～210 eV。EDSオプションあり。加速電圧0.2～30 kVで、SEM像・BSE像の観察が可能。
- ［設置場所：山手4号館103］
走査プローブ顕微鏡
-
走査プローブ顕微鏡（AFM）
Dimension XR Icon NanoE, NanoEC - 形状、機械特性、電気・電子特性、磁気特性等の計測や電気化学特性計測
雰囲気制御（温度・湿度・ガス・液中）、光照射、電気化学反応下、磁場印加等も対応 - ［設置場所：実験棟106-108］
X線
- 単結晶X線回折装置
Rigaku MERCURY CCD-1・R-AXIS IV - X線源(Mo・5kW)、CCD検出器を備えた単結晶X線回折装置。窒素ガス吹付式温度可変装置を備え100～400Kの温度測定が可能。
- ［設置場所：南実験棟SB04］
- 単結晶X線回折装置
Rigaku MERCURY CCD-2 - X線源(Mo・5kW)、CCD検出器を備えた単結晶X線回折装置。窒素ガス吹付式温度可変装置を備え100～400Kの温度測定が可能。
- ［設置場所：南実験棟SB04］
- 単結晶X線回折装置 微小結晶
Rigaku HyPix-AFC - X線集光ミラーを備えた単結晶X線回折装置で従来の4倍程度のビーム強度を持ち、微小な結晶の解析に適する。ビーム径は0.2mm 程度。また、ヘリウム／窒素切替式の吹付式試料冷却装置を備え25K程度までの低温測定が可能。
- ［設置場所：南実験棟SB04］
- 単結晶X線回折装置
Rigaku XtaLAB P200 - デュアルX線源(Mo・Cu回転対陰極)、ハイブリッドピクセル検出器PILATUS 200Kを備えた単結晶X線回折装置。
※「結晶スポンジ法を用いた分子構造解析」でご利用頂けます。 - ［設置場所：三井リンクラボ柏の葉1］
- 単結晶X線回折装置
Rigaku SuperNova - デュアルX線源(Mo・Cu封入管)、CCD検出器Altas S2を備えた単結晶X線回折装置。
※「結晶スポンジ法を用いた分子構造解析」でご利用頂けます。
※ 故障中のため利用不可 - ［設置場所：山手3号館4階共通測定室］
- 粉末X線回折装置
Rigaku RINT-UltimaIII - X線源(Cu・2kW)、シンチレーションカウンターを備えた粉末X線回折装置。光学系（集中法・平行ビーム法）や試料台等のオプションは、測定に合わせて選択可能。
- ［設置場所：山手3号館1階X線回折測定室］
- オペランド多目的X線回折装置
Panalytical Empyrean - X線源（Cu、Mo封入管）、半導体二次元検出器を備えた多目的X線回折装置。線源の集光やKα1 単色化、ステージ（3軸クレードル、温度可変［中低温］-180～500℃、［高温］RT～1200℃）等の利用が可能。
- ［設置場所：実験棟210］
- X線溶液散乱計測システム
リガク NANO-Viewer - 小角散乱による溶液状試料（タンパク質、ミセル、コロイドなど）の構造解析。高輝度X線発生装置 RA-Micro7、2次元検出器 PILATUS200K
- ［設置場所：南実験棟SB14］
電子分光
- 機能性材料バンド構造顕微分析システム
- 静電半球型アナライザーを用いた機能性材料の価電子バンド構造測定システム。ディフレクターを使用することで2次元波数空間マッピングを行うことが可能。薄膜作製用真空チェンバー、試料表面処理チェンバー（電子衝撃加熱、通電加熱、Ar+スパッタが可能）、電子線回折装置、劈開機構を利用することができるため、 様々な機能性材料の測定に対応。
- ［設置場所：実験棟216］
- X線光電子分光
- 汎用性も高いハイスペックX線光電子分光システム。Scienta光電子分光装置（光電子分析器R4000L1、Al-Kα単色X線源MX-650、真空紫外光源VUV5k、中和電子銃、グローブボックス）。
- ［設置場所：実験棟110］
電子スピン共鳴
- Bruker EMX Plus
- 高感度X-bandキャビティを備えたｃｗ－ESR装置。幅広い温度可変（LHe：3.8～300K、LN2：100～300K、Air：RT～500K）測定に対応。
- ［設置場所：共同研究棟A棟001］
- Bruker E500
- X-bandに加えQ-bandにも対応したｃｗ－ESR装置。X-bandでは1.5～4Kの温度可変やENDOR（電子-核二重共鳴）測定にも対応。
- ［設置場所：共同研究棟A棟001］
- Bruker E580
- X-band FT/CW ESR装置。通常のCW測定の他、パルス測定も可能。温度可変はESR900：3.8～300K、CF935：5～300 K。
- ［設置場所：共同研究棟A棟101］
- Bruker E680
- 高周波・高磁場W-band測定が可能なESR装置。その他、多周波数（X-、Q-band）、多種（パルス、多重共鳴）測定も可能。X-、Q-bandではナノ秒波長可変レーザーを用いた時間分解測定にも対応。
- ［設置場所：共同研究棟A棟012］
SQUID
- Quantum Design MPMS-7
- 7T超伝導磁石・超伝導量子干渉素子（SQUID）を搭載した高感度磁束計。1.8～400KのDC測定に加え、オーブンを用いた高温測定（350～800K）にも対応。
- ［設置場所：共同研究棟A棟006］
- Quantum Design MPMS-XL7
- 7T超伝導磁石・超伝導量子干渉素子（SQUID）を搭載した高感度磁束計。1.8～400KのDC測定に加え、AC測定が可能。超低磁場や電気抵抗測定にも対応。
- ［設置場所：共同研究棟A棟006］
- Quantum Design MPMS-3
- 7 T超伝導磁石・超伝導量子干渉素子（SQUID）を搭載した高感度磁束計。1.8～400 KのDC測定に加え、AC測定、超低磁場、電気抵抗測定、高温測定（315～1000 K）に対応。従来の装置に比べて短時間で目的の温度、磁場に到達が可能。
- ［設置場所：共同研究棟A棟006］
熱分析
- 示差走査型カロリメーター（溶液）
MicroCal VP-DSC - 示差走査型のカロリメーター。温度変化による、溶液中の試料の転移または変性の熱変化を測定できる。転移中点温度（Tm）、エンタルピー変化（ΔH）、熱容量変化（ΔCp）のパラメータを得ることができる。生体試料に特化した仕様のため、温度範囲は1℃～130℃。
- ［設置場所：山手4号館101］
- 等温滴定型カロリメーター（溶液）
MicroCal PEAQ-ITC, iTC200 - 等温滴定型のカロリメーター。一定温度下で、リガンド滴下によって生じる溶液中の相互作用の熱変化を測定できる。結合定数（K）、結合比（N）、エンタルピー変化（ΔH）、エントロピー変化（ΔS）のパラメータを得ることができる。温度範囲は2℃～80℃。
- ［設置場所：山手4号館101］
- 熱分析装置（固体・粉末）
Rigaku DSC8231/TG-DTA8122 - 示差走査熱量測定（DSC）、示差熱・熱重量同時測定（TG-DTA、試料観察可）が可能。温度範囲は、DSC：-130～500℃、TG-DTA：室温～1000℃。
- ［設置場所：共同研究棟A棟102］
質量分析
- MALDI-TOF質量分析計
Bruker microflex LRF - イオン化部はマトリックス支援レーザー脱離イオン化（MALDI）、質量分離部が飛行時間型の質量分析計（TOF-MS）。測定には感度、分解能が異なるLinear modeとReflector modeの2種類が可能。
- ［設置場所：山手4号館403］
分光
- 顕微ラマン分光装置
RENISHAW in Via Reflex - 顕微ラマン分光システムによる分子構造，局所結晶構造解析を支援。コンフォーカル光学系＋冷却CCDによる高空間分解能，高感度観測。488 nm から 785 nm までの励起波長選択，ヘリウム温度までの試料冷却が可能。
- ［設置場所：共同研究棟A棟007］
- FT遠赤外分光器
Bruker IFS66v/S - 遠赤外スペクトル測定支援。格子フォノン，分子ねじれ振動などの集団運動や分子間水素結合，配位結合等の弱い結合による光学モードを検出。
- ［設置場所：共同研究棟A棟007］
- 蛍光分光光度計
HORIBA SPEX Fluorolog3-21 - 紫外可視用と近赤外用の光電子増倍管を備え、フォトンカウンティング検出によって、波長1500nmまで超微弱蛍光測定が可能。高速波長スキャンで、蛍光励起スペクトル（3Dマトリックススキャン）も短時間で測定できる。
- ［設置場所：共同研究棟A棟002］
- 紫外・可視・近赤外分光光度計
Shimadzu UV-3600plus - 測定波長範囲（185nm～3300nm）が広く、ダブルモノクロによって超低迷光で高い吸光度の測定が可能。また、ダブルビーム方式でドリフトを補正し、高精度で安定な測定ができる。
- ［設置場所：共同研究棟A棟002］
-
絶対PL量子収率測定装置
Quantaurus-QY C11347-01 - 溶液、粉末、固体、薄膜に対応。
測定時間が短い（数分程度）。 - ［設置場所：共同研究棟A棟002］
- 円二色性分散計
JASCO J-1500 - 光学活性分子の立体構造（相対～絶対配置、立体配座、生体高分子の高次構造）を解析する手段として利用。付属品としてペルチェ式恒温装置、温度コントローラー、タンパク質二次構造解析プログラム、熱変性解析プログラム、粉体CD測定ユニットを所有。
- ［設置場所：山手4号館101］
レーザー
- ピコ秒レーザー
Spectra-Physics、Quantronix Millennia-Tsunami、TITAN-TOPAS - TOPASによって、紫外光から赤外光まで波長可変できるピコ秒パルスレーザー。ディレイステージも備えポンプ・プローブ実験も可能。再生増幅器出力は、レーザー加工にも適用できる。
- ［設置場所：実験棟B08］
高磁場NMR
- Bruker AVANCE 600
- 600MHz 固体NMRによる蛋白などの生体分子、有機材料、天然物などの精密構造解析支援。1H-13C-15N 3重共鳴実験まで対応。
- ［設置場所：実験棟119］
- JEOL JNM-ECA600
- 溶液測定専用の600MHzの核磁気共鳴装置。3種類のプローブを所有しており、低周波数核種の多核測定や、長時間低温測定などの特殊な測定に対応。
- ［設置場所：山手5号館予備測定室］
- JEOL JNM-ECZL600G
- 溶液測定専用の600MHzの核磁気共鳴装置。HFXプローブにより1H,19F,X核の三重共鳴測定、低周波数核種を含む多核測定や長時間低温測定にも対応。
- ［設置場所：山手4号館408］
所内専用
-
ICP発光分光分析装置（ICP-OES)
Agilent 5110 ICP-OES - 溶液試料中の多元素の定性・定量分析が同時に可能。
- ［設置場所：山手4号館３階 305］
- ESI-TOF型質量分析装置
- ［設置場所：山手４号館 406］
- 核磁気共鳴（NMR）装置
- ［設置場所：山手4号館408］
- 超伝導磁石付希釈冷凍機
Oxford Kelvinox 400 - 最低到達温度21mK、最大磁場15T。全自動ガスハンドリングシステム（Kelvinox IGH）により、冷却工程が自動化されている。
- ［設置場所：共同研究棟A棟004］
- 小型機器
- → 機器リスト・利用方法は こちら
- ［設置場所：共同研究棟A棟201］
- サンプル準備室
- ［設置場所：共同研究棟A棟202］
- 明大寺地区極低温施設
- ヘリウム液化システム、液体ヘリウム自動供給装置、液体ヘリウム貯槽、液体窒素自動供給装置、ヘリウム回収ライン
- ［設置場所：共同研究棟A棟105］
- 山手地区極低温施設
- 全自動ヘリウム液化機、液体ヘリウム貯槽、液体窒素貯槽、液体窒素自動供給装置、ヘリウム回収ライン
- ［設置場所：山手4号館］
TEL：0564-55-7470
